四氟硅片清洗支架是半导体、光伏等行业中用于固定硅片并进行清洗、蚀刻或表面处理的关键辅助工具，可避免硅片在清洗过程中因碰撞、摩擦等导致划伤或者破碎，确保化学试剂可以均匀接触硅片表面，提升清洗以及刻蚀的效率，可适配自动化设备，实现批量清洗处理。
四氟清洗支架常用于半导体制造中：晶圆去胶、去除颗粒污染物、金属离子清洗等工序，光伏光电行业：太阳能电池片制绒、酸碱蚀刻等工艺。科研实验中：实验室级硅片表面处理。
1.四氟清洗架外观为纯白色，规格尺寸多样，可匹配各种规格样式硅片，电池片，陶瓷片，掩膜版等等，定制尺寸。‘
2.可耐高低温，在-200℃到250℃范围内使用，在高低温情况下保持稳定的性能。
3.可耐受强酸，强碱，王水，魔酸等有机溶剂的腐蚀，使用过程中无溶出，吸附析出等，保证其化学性能的稳定性。
4.金属空白值低，无污染，对样品不产生影响。
5.内壁外光滑光洁，表面不粘性，易于清洗。
